武汉联发科研发中心丨中国武汉丨上海潘冀建筑设计

项目名称：武汉联发科研发中心

位置：武汉

设计公司：上海潘冀建筑设计

摄影师：赵奕龙

项目位于武汉光谷金融港，为联发科技MediaTek进行软件系统设计的研发基地。基地只向南面临道路，内部却存在约5米的高差和不规则的用地轮廓。因此，如何因地制宜地设计建筑，以满足用户对规整、易于弹性调整使用空间大小的要求，成为了项目设计的关键所在。为了划分出研发主楼和附属停车楼的范围，我们在用地轮廓内嵌入两个方形区域。汽车坡道顺应地势高差，与邻近道路的开口相邻，不仅缩短了车辆地面行驶路径，还将车流和人流分离开来。研发主楼采围合式回形平面，交通核心及辅助空间则集中于东西两侧。这样研发空间既可完整联通，也能轻松地调整大小。此外，我们在建筑中央创造了一个露天中庭以提供额外的自然采光面，同时也形成了内外双重景观视野。中庭内串联的通道、平台和户外楼梯营造出节奏分明的动线，并创造出通透明亮的室内外互动休憩空间。

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心外部实景图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心平面图

武汉联发科研发中心剖面图

武汉联发科研发中心立面图

武汉联发科研发中心立面图